晶圓的製作

外質吸除(extrinsic gettering, EG):. – 於表面生成一層多晶矽. – 於晶圓背面形成氮化矽晶粒邊界. – 晶圓背面以機械方式摩擦. – 以雷射光束照射晶圓背面. – 離子植入 ...

晶圓- 维基百科,自由的百科全书

跳到 製造過程 - 晶圓製造廠再以柴可拉斯基法將此多晶矽熔解,再於溶液內摻入一小粒的矽晶體晶種,然後將其慢慢拉出,以形成圓柱狀的單晶矽晶棒,由於矽 ...

《半導體製造流程》

半導體元件製造過程可示意. 如下圖:. 一、晶圓處理製程. 晶圓處理製程之主要工作為在矽晶圓上製作電路與電子元件(如電晶體、. 電容體、邏輯閘等),為上述各製程中 ...

半導體製程及原理

半導體各種產品即依上述基本原理,就不同工業需求使用矽晶圓、光阻劑、顯影 ... 積體電路的製造過程主要以晶圓為基本材料,經過表面氧化膜的形成和感光劑的塗佈 ...

晶圓製造| TechNews 科技新報

英特爾不會過渡10 奈米以發展7 奈米,將推出10 奈米強化版製程. 2019 年12 月16 日. Facebook Line Twitter Share · Sony 影像感測器釋單台積電代工,為營收再添 ...

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