標籤: 溅镀机

射頻濺鍍機(RF sputter)是一種薄膜製程儀器，適用於電機、機械、電子、光學、材料等研究領域。射頻濺鍍機基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子(通常是由電場 ...

濺射（sputtering），也稱濺鍍（sputter deposition/coating），是一種物理氣相沉積技術，指固體靶"target"（或源"source"）中的原子被高能量離子（通常來自電漿體）撞擊而 ...

小型AR用真空溅镀机SPS-208CW是针对以手机的相机镜头，光学摄像镜头为代表的小径镜片，以镀AR膜为主要目的所开发的光学薄膜用单晶片式溅镀设备。 以其单 ...

跳到 溅镀机设备与工艺 - 溅镀溅镀机设备与工艺. 编辑.

2017年11月28日 - 真空镀膜机溅镀的原理是什么 溅镀，一般指的是磁控溅镀，归于高速低温溅镀法. 该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布，即1.3×10-3Pa的真空状况充 ...

溅射设备. 拥有20年以上的物理气相沉积专业技术. 溅射技术概览. 德国新格拉斯科技集团成立于1995年，前身是德国莱. 宝公司，其总部设立在德国莱茵-美茵地区， ...

使用脈衝直流電漿濺鍍。其主要原理是在真空環境，將陰極加至數百伏特電壓，讓通入的氣體因高電壓而起輝光放電作用形成電漿，並利用電漿的正離子轟擊金屬靶材 ...

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