標籤: 濺鍍機 靶材

光洋的靶材提供了良好的薄膜特性與濺鍍效率，有助於碟片品質的掌控。除此之外對於靶 ... 碟片種類, 碟片品項, 光洋靶材所能運用之碟片結構層, 適用濺鍍機台, 尺寸.

本設備為單室結構的磁控濺射鍍膜設備，主要用於在高分子材料和金屬表面用磁控濺射的方法將銅和鎳濺射上去，厚度約1～5μm；（設備驗收考核以能夠製備優質氮化 ...

射頻磁控濺鍍機（RF magnetron Sputter）是一種薄膜製程的儀器，可適用於 ... 直流濺鍍不能用來濺鍍絕緣體，因為在直流濺鍍時，撞擊陰極靶材的離子所帶的電荷不能 ...

射頻濺鍍機基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子(通常是由電場加速的正離子) ... 靶材)吸引而撞擊陰極，入射離子(通常用氬氣)受到電場作用獲得動量，撞擊靶材 ...

濺鍍靶材應用,Sputtering Targets Application,新輔科技,Nutek Material,裝飾鍍膜,工具鍍膜,機殼鍍膜, 燃料電池液晶面板,觸控面板,太陽能電池矽晶圓背面金屬化, ...

磁控式濺鍍機 ... 合金靶材(如:Ti/Al/Steel/Zn/Zr/Sn等)，接通反應氣體可做反應式濺鍍. ii. ... 靶材尺寸: 2吋Sputter Cathode x2 EA(直徑50.8 mm±0.1mm 背板尺寸: ...

高溫反應式射頻磁控濺鍍機. 在真空中利用具有動能的粒子撞擊靶材，將靶材(欲鍍材料)表面的物質打出，附著在基板上(被鍍物)形成薄膜。基板可同時加熱達900 oC。

2017年10月14日 - 濺鍍機打開→破真空→裝上靶材與試片→抽真空→打電漿→濺鍍→關機. 34. Sputter 操作– 濺鍍. 濺鍍機打開→破真空→裝上靶材與試片→抽真空→ ...